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Institut Silizium-Photovoltaik

PVD Labor

Im PVD labor des Instituts stehen verschiedene Beschichtungsanlagen zur Herstellung von transparent-leitfähigen Metalloxiden sowie zur Metallisierung von Solarzellen bereit. Nachfolgend eine Übersicht über die wichtigsten Systeme.

Roth & Rau TCO Sputteranlage

Zur Abscheidung von TCO (transparent conductive Oxides) steht eine Roth und Rau Microsys sputteranlage zur Verfügung. Mit dem Tool können ITO (Indium-/Zinnoxid), IZO (Indium-/Zinkoxid) sowie WOx (Wolframoxid) -Schichten mittels HF- sowie DC-Anregung hergestellt werden.

 

Weitere technische Daten:

  • Probengröße bis zu 8-Zoll
  • Substratheizer bis zu 200°C

FHR PVD Cluster

Am PVD cluster der Firma FHR können unterschiedliche Metalle zur Kontaktierung von Hetero-Junction Solarzellen deponiert werden. Im Moment werden dort Silberschichten mit einer Rate bis zu 80 nm/min deponiert.

 

 

CREAMET Thermischer Verdampfer

Neben Sputterprozessen können Metallschichten mittels thermischen Verdampfens deponiert werden. Hierzu steht ein termischer Verdampfer CREAMET 350 der Firma CreaVac bereit.  

Technische Daten:

  • Doppelquellen Verdampfer für Titan, Silber und Aluminium
  • Schichtdicken bis zu 1,5 Mikrometer
  • gleichzeitige Beschichtung von vier Substraten bis zu 10x10cm²
  • Schwingquarz zur in-situ Prozesskontrolle