• 
  Kim, K. J.; Kim, A.; Kim, C. S.; Song, S. W.; Ruh, H.; Unger, W. E. S.; Radnik, J.; Mata-Salazar, J.; Juarez-Garcia, J. M.; Cortazar-Martinez, O.; Herrera-Gomez, A.; Hansen, P. E.; Madesen, J. S.; Senna, C. A.; B. Archanjo, B. S.; Damasceno, J. C.; Achete, C. A.; Wang, H.; Wang, M.; Windover, D.; Steel, E.; Kurokawa, A.; Fujimoto, T.; Azuma, Y.; Terauchi, S.; Zhang, L.; Jordaan, W. A.; Spencer, S. J.; Shard, A. G.; Koenders, L.; Krumrey, M.; Busch, I.; Jeynes, C.: Thickness measurement of nm HfO2 films. Metrologia 58 (2021), p. 08016/1-108

10.1088/0026-1394/58/1A/08016