LEEM-PEEM

LEEM-PEEM

Kombiniertes Niederenergie-/Photoemissions- Elektronenmikroskop mit Aberrationskorrektur.

Elektronenoptisches Layout des SPECS P90 AC LEEMPEEM

Elektronenoptisches Layout des SPECS P90 AC LEEMPEEM

Liste von Publikationen
Station data
Monochromator Spherical grating
Experiment in vacuum ja
Temperature range 300-1600 K
Detector two-stage MCP (Hamamatsu)
Manipulators 5-Axis Piezo-contolled
Ortsauflösung LEEM-Modus 2 nm
Ortsauflösung PEEM-Modus 20 nm
Enddruck 4E-10 mbar
Präparationskammer * Sputtering up to 1.5kV * Sample temp. range 300 - 1200 K * pyrometric temp. measurement * LEED * Auger * gas inlets: Ar, O2, user specific * base pressure 1E-10 mbar

Methods

NEXAFS, XMCD, X-ray Microscopy, Photoelectron EM

Dieses Mikroskop ist mit einem neuartigen Aberrationskorrektor ausgestattet, der elektronenoptische Abbildungsfehler minimiert und dadurch gleichzeitig Transmission und Ortsauflösung erhöht. Im LEEM-Betrieb wurden im Labor bereits 2 nm nachgewiesen. In Kombination mit weicher Röntgenstrahlung (XPEEM) können orstaufgelöste spektroskopische Untersuchungen (NEXAFS, XPS) sowie magnetische Messungen (XMCD,XMLD) durchgeführt werden. Eine kürzlich installierte Erweiterung erlaubt stroboskopische XPEEM-Experimente zur Magnetisierungsdynamik.