Focused Ion Beam

Crossbeam Systeme  verbinden die Abbildungs- und Analysemöglichkeiten eines Rasterelekronenmikroskops mit den Materialverarbeitungsleistungen einer Gallium-FIB. Ihre Möglichkeiten sind vielfältig und umfassen unter anderem 3D Tomographien im µm-nm Bereich, Nanostrukturierung sowie Herstellung von Lamellen für die Transmissionselektronenmikroskopie.

Zeiss Crossbeam 340

  • Gemini I VP Säule für verschiedene Druckbereiche
  • InLens Duo Detektor
  • 5pA-100nA FIB-Ströme
  • Single GIS mit Platin (Gold)
  • Multi GIS mit Platin, Kohlenstoff, XeF2, Wasser und Charge Compensation
  • Manipulator mit Nadel sowie Microgripper

 Orion NanoFab

  • Helium- und Neonstrahl zur Erstellung feiner Strukturen unter 10nm
  • Auflösung von 0,5 nm
  • 5-10mal größere Tiefenschärfe im Vergleich zu FE-SEMs
  • Untersuchung von nichtleitenden Probenoberflächen durch Elektronen Floodgun
  • Geringe Sondenströme zum Schutz empfindlicher Materialien wie z.B. biologischen Proben oder Graphen